Комплекс «Нанофаб 100» (Россия)

Четырехкамерный нанотехнологический комплекс включает модули Сканирующей Зондовой Микроскопии (СЗМ) и Фокусированного Ионного Пучка (ФИП) и камеры загрузки зондов и образцов. Установка позволяет обрабатывать и исследовать образцы диаметром до 100 мм в условиях сверхвысокого вакуума.

Методики и Технологии «Нанофаб-100»:

  • Сканирующие зондовые технологии (сканирующая туннельная (СТМ) и атомно-силовая микроскопия (АСМ));
  • Ионно-пучковые технологии;
  • Ионная микроскопия;
  • Ионная нанолитография.

Модуль ФИП:

Технология фокусированного ионного пучка (ФИП) представляет собой процесс, при котором остросфокусированный направленный пучок ионов, обладающих высокой энергией, бомбардирует образец. При бомбардировке происходит распыление атомов образца и выход вторичных электронов с поверхности образца. ФИП предназначены для проведения технологических операций нанолитографии, локального роста, резки и визуализации наноэлементов и наноструктур, очистки поверхности полупроводниковых пластин и пр.

Технические характеристики НТК «Нанофаб-100»:

Параметры модуля СЗМ:

Тип сканирования

сканирование зондом

Область сканирования

50х50х6 мкм

Область позиционирования координатного стола XY

Ǿ100 мм

Уровень шумов по осям ХY

< 1 нм

Уровень шумов по оси Z

< 0.1 нм

Вакуум

1х10-7 Па

Активная виброзащита

1-200 Гц

 

 

Параметры модуля ФИП:

Источник ионов

Ga

Мин. диаметр пучка

10 нм

Рабочее поле

300х300 мкм

Энергия пучка

3 – 30 кэВ

Ионный ток

от 1 пА до 20 нА

Вакуум

1х10-7 Па

Активная виброзащита

1-200 Гц

 

 

Требования к образцам:

Образец

Размер

до 100 мм в диаметре

до 20 мм в высоту для СЗМ

до 8 мм в высоту для ФИП

Вес

до 150 г